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一、碳酸鈣垢。
當阻垢劑添加系統出現故障或加酸系統導致給水PH升高時，碳酸鈣可能會沉積。碳酸鈣垢沉淀應盡快發現，以防止生長晶體損傷膜表面。如果碳酸鈣垢在早期發現，可通過減少給水PH至3.0~5.0之間運行1~2小時來去除。對于沉淀時間較長的碳酸鈣垢，應使用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
注：確保任何清洗液的PH不低于2.0，杯子可能會損壞RO膜元件，尤其是溫度高的時候。最高PH不應高于11.0。檢查用氨提高PH，用硫酸或鹽酸降低PH。
二、硫酸鈣垢。
清洗液2(見表面化)是從反滲透膜表面去除硫酸鈣垢的最佳方法。
三、金屬氧化物垢。
上述去除碳酸鈣垢的方法可用于去除沉積的氫氧化物(如氫氧化鐵)。
四，硅垢
硅垢不與金屬化物或有機物共生，只能通過特殊的清洗方法去除。
五、有機沉積物。
有機沉積物（如微生物粘土或霉菌）可用清潔劑3去除，為防止再繁殖，可使用海德能公司認可的殺菌溶液在系統中循環，浸泡，一般浸泡時間長，如反滲透裝置停止三天，消毒，請咨詢海德能公司確定合適的殺菌劑。
六，清洗液
清洗反滲透膜元件時，建議使用表2中列出的清洗液。在清洗前確定污染物的化學分析非常重要。對分析結果的詳細分析和比較可以確保選擇清洗劑和清洗方法，并記錄每次清洗時的清洗方法和清洗效果，為在特定的供水條件下找到清洗方法提供依據。
建議使用無機污染物清洗液1。建議使用硫酸鈣和有機物清洗液2。對于嚴重的有機物污染，建議使用清洗液3。所有清潔劑可在最高溫度為華氏104度（40℃）下清潔60分鐘。所需用品量應在每100加侖（379升）中加入量計。制備清洗液時，應按比例加入藥品和清洗水。應使用無游離氯的反滲透產品水制備溶液并均勻混合。
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